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tft 生产技术为的部分是光刻工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中,受人们关注的就是掩模版,其在很大程度上决定了tft- lcd 的品质,而其使用数量的减少可有效削减设备投资、缩短生产周期。随着 tft 结构的变化和生产工艺的改进,其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见,tft 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺,---地缩减了 tft- lcd 生产周期和生产成本。
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lcd制造时选用的控制ic、滤光片和定向膜等配件,与面板的对比度有关,工业屏m104gnx1 r1,对一般用户而言,对比度能够达到350:1就足够了,但在领域这样的对比度并不能满足用户的需求。相对crt显示器轻易达到500:1甚至更高的对比度而言,只有高
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