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tft 生产技术为的部分是光刻工艺，它既是决定产品品质的重要环节，工控显示屏m104gnx1 r1，也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中，受人们关注的就是掩模版，其在很大程度上决定了tft- lcd 的品质，而其使用数量的减少可有效削减设备投资、缩短生产周期。随着 tft 结构的变化和生产工艺的改进，其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见，tft 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺，---地缩减了 tft- lcd 生产周期和生产成本。
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lcd的可视角度是一个让人头疼的问题，当背光源通过偏极片、液晶和取向层之后，输出的光线便具有了方向性。也就是说大多数光都是从屏幕中垂直射出来的，所以从某一个较大的角度观看液晶显示器时，便不能看到原本的颜色，甚至只能看到全白或全黑。为了解决这个问题，制造厂商们也着手开发广角技术，到目前为止有三种比较流行的技术，分别是：tn+film、ips(in-plane -switching)和mva(multi-domain vertical alignment)。
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