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tft 生产技术为的部分是光刻工艺，它既是决定产品品质的重要环节，也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中，受人们关注的就是掩模版，其在很大程度上决定了tft- lcd 的品质，而其使用数量的减少可有效削减设备投资、缩短生产周期。随着 tft 结构的变化和生产工艺的改进，m104gnx1(r1)液晶屏，其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见，tft 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺，---地缩减了 tft- lcd 生产周期和生产成本。
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tft-lcd液晶显示器的结构与tn-lcd液晶显示器基本相同，只不过将tn-lcd上夹层的电极改为fet晶体管，而下夹层改为共通电极。tft-lcd液晶显示器的工作原理与tn-lcd却有许多不同之处。tft-lcd液晶显示器的显像原理是采用“背透式”照射方式。当光源照射时，先通过下偏光板向上透出，借助液晶分子来传导光线。由于上下夹层的电极改成fet电极和共通电极，在fet电极导通时，液晶分子的排列状态同样会发生改变，也通过遮光和透光来达到显示的目的。但不同的是，由于fet晶体管具有电容效应，能够保持电位状态，先前透光的液晶分子会一直保持这种状态，直到fet电极下一次再加电改变其排列方式为止。
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