m104gnx1(r1)公司-与来视讯

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    2020-12-5

张媛
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公元1968年,m104gnx1(r1)公司,在美国rca公司(收音机与电视的发明公司)的沙诺夫研发中心,---们发现液晶分子会受到电压的影响,改变其分子的排列状态,并且可以让射入的光线产生偏转的现象。利用此一原理,rca公司发明了台使用液晶显示的屏幕。尔后,液晶显示技术被广泛的用在一般的电子产品中,举凡计算器、电子表、手机屏幕、医院所使用的仪器(因为有辐射计量的考虑)或是数字相机上面的屏幕等等。令人玩味的是,液晶的发现比真空管或是阴极射线管还早,但世人了解此一现象的并不多,直到1962年才有本,由rca研究小组的化学家乔.卡司特雷诺(joe castellano)先生所出版的书籍来描述。而与映像管相同的,这两项技术虽然都是由美国的rca公司所发明的,却分别被日本的新力与夏普(sharp)两家公司发扬光大。


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tft-lcd液晶显示器的结构与tn-lcd液晶显示器基本相同,只不过将tn-lcd上夹层的电极改为fet晶体管,而下夹层改为共通电极。tft-lcd液晶显示器的工作原理与tn-lcd却有许多不同之处。tft-lcd液晶显示器的显像原理是采用“背透式”照射方式。当光源照射时,先通过下偏光板向上透出,借助液晶分子来传导光线。由于上下夹层的电极改成fet电极和共通电极,在fet电极导通时,液晶分子的排列状态同样会发生改变,也通过遮光和透光来达到显示的目的。但不同的是,由于fet晶体管具有电容效应,能够保持电位状态,先前透光的液晶分子会一直保持这种状态,直到fet电极下一次再加电改变其排列方式为止。








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tft 生产技术为---的部分是光刻工艺,它既是决定产品品质的重要环节,也是影响产品成本的关键部分。而在光刻工艺中,受人们关注的就是掩模版,其在很大程度上决定了tft- lcd 的品质,而其使用数量的减少可有效削减设备投资、缩短生产周期。随着 tft 结构的变化和生产工艺的改进,其制造过程中使用掩模版的数量也在相应地减少。由此可见,tft 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到目前普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺,---地缩减了 tft- lcd 生产周期和生产成本。



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